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第709章 中国光刻机的希望（第3页）

“噢。”

陈宇点头。

他这一次来这里听研讨会的目的，不就是为了光刻机吗？

原本他以为，只要涉及到光刻机的，要么是荷兰，要么是德国，要么是日本。

没想到，在光刻机领域竟然还有一位华人大拿。

这一次，他倒要认真的听了。

但可惜。

虽然林本艰会说中文，但在这样的全球性研讨会上，演讲用的还是英语。

与此前一样，陈宇也感觉在听天书。

听了好一会，陈宇只听到干式，湿式什么的。

“张总，那个林本艰说的干式和湿式是什么意思？”

“说的是生产光刻机的一种技术工艺，目前我们大部分普遍用的是干式光刻机生产工艺。也就是用空气做为镜头与晶圆间的介质，让光罩上的图形在晶圆上成象。不过，这个林本艰觉得，还可以用一种湿式工艺。”

“什么是湿式？”

“他说的这个湿式名字叫做浸润式，与湿式差不多。但用的介质却不一样，我们一般现在用的是空气，而林本艰提成了用水做为浸润式的介质。”

“水？”

听到水这个词，陈宇陈宇有些激动。

记得前世，其实在开始之初，荷兰aslm与德国，与日本几大光刻机公司实力都差不多。

为什么后来aslm却是一统天下，完全与这一些光刻机公司选择的路线有关。

当时日本，德国，包括美国这一些光刻机公司路线选择出错。

而aslm却是花重金开辟了另一条光刻机生产工艺。

这个工艺，就涉及到水，也就是林本艰现在提到的浸润式。

“您觉得他的这个工艺有没有前途？”

陈宇不是很懂技术，但却知道，这是决定未来光刻机命运的时刻。

在前世2008年之后，全球90%以上生产出来的芯片，用的都是林本艰所提出来的湿式光刻工艺。并且，也正因为林本艰提出了这个湿式工艺，这才将芯片从190纳米，一路做到了130纳米，90纳米，65纳米，40纳米，28纳米，20纳米，16纳米，10纳米，7纳米，和5纳米。甚至，连最为尖端的3纳米，采用的都是林本艰的湿式光刻技术。

“这个，说不准，理论上有可能，但里面还存在着一系列要解决的问题。比如，水会不会产生汽泡，水会不会污染设备，要怎么做防水，水遇热会膨胀，折射率会改变，这又怎么解决……”

张如京向陈宇述说着这一个湿式光刻工艺所面对的问题。

只是，这个时候，陈宇的眼睛已经盯紧了林本艰。

他知道。

未来若干年之后，这一切的问题都不会成为问题。

如果抓住这个林本艰，那么，中国光刻机就有希望了。